Підкладка LiAlO2

Підкладка LiAlO2 відноситься до підкладки, виготовленої з оксиду літію і алюмінію (LiAlO2).LiAlO2 є кристалічною сполукою, що належить до просторової групи R3m і має трикутну кристалічну структуру.

Підкладки LiAlO2 використовувалися в різних сферах застосування, включаючи вирощування тонких плівок, епітаксійних шарів і гетероструктур для електронних, оптоелектронних і фотонних пристроїв.Завдяки своїм відмінним фізичним і хімічним властивостям він особливо підходить для розробки широкозонних напівпровідникових приладів.

Одним із основних застосувань підкладок LiAlO2 є пристрої на основі нітриду галію (GaN), такі як транзистори з високою мобільністю електронів (HEMT) і світлодіоди (LED).Невідповідність гратки між LiAlO2 і GaN є відносно невеликою, що робить його придатною підкладкою для епітаксійного росту тонких плівок GaN.Підкладка LiAlO2 забезпечує високоякісний шаблон для осадження GaN, що забезпечує покращену продуктивність і надійність пристрою.

Підкладки LiAlO2 також використовуються в інших галузях, таких як вирощування сегнетоелектричних матеріалів для пристроїв пам’яті, розробка п’єзоелектричних пристроїв і виготовлення твердотільних батарей.Їх унікальні властивості, такі як висока теплопровідність, хороша механічна стабільність і низька діелектрична проникність, дають їм переваги в цих застосуваннях.

Таким чином, підкладка LiAlO2 відноситься до підкладки, виготовленої з оксиду літію і алюмінію.Підкладки LiAlO2 використовуються в різних сферах застосування, особливо для вирощування пристроїв на основі GaN та розробки інших електронних, оптоелектронних і фотонних пристроїв.Вони мають бажані фізичні та хімічні властивості, які роблять їх придатними для осадження тонких плівок і гетероструктур і покращують продуктивність пристроїв.